Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"tetravinylsilane (TVS)."
Hledej:
Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání
Hledej ve sbírkách:
Seřadit podle: Zobrazit výsledky: Výstupní formát:
Národní úložiště šedé literatury Nalezeno 2 záznamů.  Hledání trvalo 0.01 vteřin. 
Tenké vrstvy připravené v RF doutnavém výboji a jejich fyzikálně-chemické vlastnosti
 Bránecký, Martin ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práca je v teoretickej časti zameraná na literárnu rešerš zaoberajúcou sa tvorbou tenkých vrstiev, plazmou, analýzou plazmy pomocou hmotnostnej spektrometrie a plazmovou polymerizáciou. Ďalej táto časť popisuje analýzu tenkých vrstiev pomocou optických metód spektroskopickej elipsometrie a FT-IR spektroskopie. Experimentálna časť práce popisuje materiály používané pri príprave tenkých vrstiev ako aj popis aparatúry, ktorá slúži pre prípravu tenkých vrstiev technológiou plazmochemickej depozície z plynnej fázy (PE CVD). Presné monitorovanie a riadenie depozičných podmienok, monitorovanie plazmy a jej produktov hmotnostnou spektrometriou zabezpečia vysokú reprodukovateľnosť prípravy tenkých vrstiev. Posledná časť práce popisuje výsledky merania skupiny vzoriek vytvorených tenkých vrstiev a ich vyhodnotenie elipsometrom, hmotnostným spektrometrom a FT-IR spektroskopom s ohľadom na depozičné podmienky.
Úplný záznam
Tenké vrstvy připravené v RF doutnavém výboji a jejich fyzikálně-chemické vlastnosti
 Bránecký, Martin ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Čech, Vladimír (vedoucí práce)
Diplomová práca je v teoretickej časti zameraná na literárnu rešerš zaoberajúcou sa tvorbou tenkých vrstiev, plazmou, analýzou plazmy pomocou hmotnostnej spektrometrie a plazmovou polymerizáciou. Ďalej táto časť popisuje analýzu tenkých vrstiev pomocou optických metód spektroskopickej elipsometrie a FT-IR spektroskopie. Experimentálna časť práce popisuje materiály používané pri príprave tenkých vrstiev ako aj popis aparatúry, ktorá slúži pre prípravu tenkých vrstiev technológiou plazmochemickej depozície z plynnej fázy (PE CVD). Presné monitorovanie a riadenie depozičných podmienok, monitorovanie plazmy a jej produktov hmotnostnou spektrometriou zabezpečia vysokú reprodukovateľnosť prípravy tenkých vrstiev. Posledná časť práce popisuje výsledky merania skupiny vzoriek vytvorených tenkých vrstiev a ich vyhodnotenie elipsometrom, hmotnostným spektrometrom a FT-IR spektroskopom s ohľadom na depozičné podmienky.
Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.
Digitální repozitář :: Hledej :: Nový záznam :: Personalizace :: Nápověda
Powered by Invenio v1.1.2
Spravuje admin.invenio@techlib.cz
Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky  English